</sup>72</sup>Ge in Form von Germaniumtetrafluoridgas GeF4

72Ge in Form von Germaniumtetrafluoridgas GeF4

Germanium-Isotope

Angereichertes Germaniumtetrafluoridgas wird als präamorphes Implantat verwendet, um zu verhindern, dass Dotierstoffkanäle in den Siliziumwafern implantiert werden. Außerdem wird es verwendet, um die Siliziumscheibe zu belasten, was die Leistung und Geschwindigkeit des Geräts optimiert.

Spezifikationen

Isotopic Abundance:

Item   70Ge 72Ge 73Ge 74Ge 76Ge
Abundance (%) GC-MS
(±0.5)		 8.78 65.02 12.81 13.37 0.02

RGA Analysis

Component Analysis Specification Detect Limit Units Analysis Method
GeF4 Purity ≥99.99 / % by Volume GC-MS
72Ge ≥55% 0.0001 AT% GC-MS
O2 ≤25 0.1 ppmv GC-MS
N2 ≤25 0.1 ppmv GC-MS
CO2 ≤25 0.1 ppmv GC-MS
SO2 ≤25 0.1 ppmv GC-MS
HF ≤25 0.1 ppmv GC-MS
Ar ≤25 0.1 ppmv GC-MS
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